현재에 안주하지 않고 내일을 향해 내달리는 8plant가 되겠습니다.
8plant 기술력
8 Chamber Vacuum Ultrasonic Cleaning System
8 Chamber Vacuum Ultrasonic Cleaning System은 표면에 잔류하는 화학물질 및 이온, 불순물 등을 제거하여 환자의 구강 건강이 최적화된 품질 확보를 위한 8plant만의 세척 공법으로 임플란트 식립 후 안정적인 골융합을 위해 역반응을 사전 방지할 수 있게 기술을 포함하고 있습니다.
8plant의 독자적인 세척 시스템은 부작용의 원인이 되는 불순물(화학적 이온 포함)과 제조 공정에 사용되는 화학물질(표면처리제, 세척제 등)의 검출 값이 현저하게 낮아 품질 안정성을 구현하고 있습니다.
식립 이후 고객분들의 만족도가 높으며 깨끗한 임플란트를 안전하게 식립할 수 있는 것이 8plant의 목표입니다.
EVALUATION OF CLEANING PERFORMANCE
-
Residual ion detecion analysis (anion IC, cation ICP)
: each element 0.5 PPM down -
Cell Toxic Test
: cell proliferation rate 29% down -
FT-IR(Identification of cleaning residual through infrared spectrum)
: peak of cleaner used during process should not detect
Result of Surface Residual Anion
| Evaluation Standard | 8plant SLA Fixture Result | |
|---|---|---|
| IC 0.5 PPM down |
F | N.D |
| CI | 0.011 | |
| NO2 | N.D | |
| NO3 | 0.016 | |
| SO4 | 0.015 | |
| PO4 | N.D | |
* 이온검출시 0.5 PPM (1mg/L ) 이내 NO2, Br, PO4 음이온 및 중금속 Sn Ni와 같은 물질은 감지되지 않습니다.